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설파민산 니켈욕에서 고속니켈 전기 도금중 박막 석출에 있어서 내부응력에 대한 염소, 브롬, 요드 이온의 효과
E€ects of chloride, bromide and iodide ions on internal stress in films deposited during high speed nickel electroplating from a nickel sulfamate bath

등록 2012.11.10 ⋅ 63회 인용

출처 Applied Electrochemistry, 30권 2000년, 영어 8 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2022.02.12
니켈이온 제한전류 밀도에 가깝게 작동하는 니켈 설파메이트 욕에서 고속전기 도금하는 동안 도금된 니켈피막에서 발생하는 내부응력에 대한 염화물, 브롬화물 및 요오드화물 첨가효과를 조사했다. 피막의 내부 스트레인의 변화는 구리소재의 뒷면에 배치된 저항와이어 유형 스트레인 게이지를 사용하여 현장에서 측정하였다...
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