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브롬화 세틸트리메틸 암모늄 (CTAB) 함유 산성 황산욕에서 구리의 전착
Electrodeposition of Cu from acidic sulphate solutions containing cetyltrimethylammonium bromide (CTAB)

등록 2012.11.11 ⋅ 78회 인용

출처 Applied Electrochemstry, 38권 2008년, 영어 9 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.14
우리는 세틸 트리메틸 암모늄 브로마이드 (CTAB) 를 포함하는 산성 황산염용액에서 구리 Cu 의 전극위치에 대한 연구하였다. 이 조사는 순환 전압전류법, 현장 표면강화 라만분광법 (SERS), 주사전자 현미경 (SEM) 및 투과전자 현미경 (TEM) 을 기반으로 조사하였다. 광범위한 음극 전위에 대한 CTAB 의 흡착은 콤팩트하고 ...
  • 금속의 전착 계수 2 금속 원 자 가 그램 당량 비중 전기화학 당량 mg/쿠롱 1A/dm2 통전석출양 1A×시간당 석출량 1 dm2/ m 또는 1g 석출 소요전기량 1dm2 1㎛ 중량 이온 m/...
  • 금속이나 프라스틱의 무전해 도금욕 관리에 응용되고 있는 등속 전기영동법을 이용한 섬유가공용으로 이용되는 니켈 및 구리의 도금욕 분석을 검토
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