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마이크로범프 형성을 위한 도금기술
Plating Technology for Micro-Bump Formation

등록 2013.01.06 ⋅ 31회 인용

출처 SHM회지, 12권 3호, 일어 6 쪽

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マイクロバンプ形成のためのめっき技術

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자료요약
카테고리 : 응용도금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.10.17
멀티미디어 시대에 돌입한 오늘날 이동 통신기기의 수요와 함께 전자기기의 고기능화, 소형경량화가 더욱 요구되고 마이크로 전자기술의 발전이 커지고있다. LSI 칩과 베이스 기판을 전기적으로 연결하는 방법으로 와이어본딩 방식이 사용되어 왔다. 그러나 LSI의 고기능화, 대용량화에 따라 LSI의 단자수의 증가, 전극의 미...
  • 인산염 처리는 금속 도장을 위한 표면 전처리로 산업용 피막 응용 분야에서 널리 사용된다. 주요 기능은 페인트와 에나멜의 하도 역할을 하여 밀착력과 유연성을 유지하고 ...
  • Ni-P/Pd/Au プロセス?用の無電解Ni-P めっき、無電解 Pd めっきとして「NPG ニコロン LMP」、「パラトップ LP」、フラッシュ Au めっきとして「NPG フラッシュゴ?ルド」を開...
  • 규불화수소를 함유하는 흑색크롬 도금욕에 질소 이온을 첨가는 도금의 흑색도에 가장 효과적 이었다. 규불화수소와 질소 이온을 포함하는 욕의 도금을 연구한 결과 욕이 매...
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