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마이크로범프 형성을 위한 도금기술
Plating Technology for Micro-Bump Formation
자료 :
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- 분류 : 마이크로범프 ⋅
자료요약
카테고리 : 응용도금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.10.17
멀티미디어 시대에 돌입한 오늘날 이동 통신기기의 수요와 함께 전자기기의 고기능화, 소형경량화가 더욱 요구되고 마이크로 전자기술의 발전이 커지고있다. LSI 칩과 베이스 기판을 전기적으로 연결하는 방법으로 와이어본딩 방식이 사용되어 왔다. 그러나 LSI의 고기능화, 대용량화에 따라 LSI의 단자수의 증가, 전극의 미...
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도금피막의 밀착성확보를 위한 지침과 평가방법 및 실제의 대책사례에 관한 설명
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애디티브법 ㆍ Additive Method [인쇄회로]의 무전해 구리도금 ([스루홀]도금) 방법을 말하며 다음과 같은 애디티브법이 있다 [풀애디티브법] 접착제 된 구리 적층판에 스루...
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제품의 개발단계에서 제품의 설계 마진, 내환경성 및 잠재적 약점들과 경제성을 고려한 제품의 강도를 조절하는데, 이러한 조건이 제품의 수명기간동안 고장이 발생하지 않...
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Electroless Nickel SLOTONIP CT 20 is an electroless process for the deposition of nickel-phosphorus / PTFE composite coatings onto metals and non-conductive mate...
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중성 타입 무전해 동도금액은 없나요.?