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마이크로범프 형성을 위한 도금기술
Plating Technology for Micro-Bump Formation
자료
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분류
마이크로범프 ⋅
자료요약
카테고리 : 응용도금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.10.17
멀티미디어 시대에 돌입한 오늘날 이동 통신기기의 수요와 함께 전자기기의 고기능화, 소형경량화가 더욱 요구되고 마이크로 전자기술의 발전이 커지고있다. LSI 칩과 베이스 기판을 전기적으로 연결하는 방법으로 와이어본딩 방식이 사용되어 왔다. 그러나 LSI의 고기능화, 대용량화에 따라 LSI의 단자수의 증가, 전극의 미...
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PUB · Diaminoarea polymer CAS : 68555-36-2 C15H34Cl2N4O2 = 373.36 g/mol 성상 : 무색-황색 투명 액상 순도 : 60 % pH 7.5~8.5 용도 : Polyureylene ammonium 염의 카티...
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알칼리 물질이 포함되지 않은 화학물질을 사용하여 구리배선의 보호막 제조를 위한 코발트 Co 합금박막의 무전해도금을 수행 하였다. pH, Co 전구체 농도, 전착온도 등...
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용사에 의한 표면처리된 내식성이 우수한 마그네슘 합금
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도금 반응이 일어나기 어려운 반도체 웨이퍼 등의 경면상 등에서 무전해구리도금을 실시할 때에, 보다 저온으로 균일한 도금이 가능한 무전해구리 도금액을 제공하는 것...
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커넥터와 같은 접속부품의 표면처리에 사용되는 기존의 Ni 도금층을 Ni-P-PTFE 코팅으로 대체가능한지를 검증하기 위한 기초 물성의 확보를 시도