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무전해 도금법
Electroless Plating method

등록 : 2008.08.10 ⋅ 45회 인용

출처 : 일본특허, 1972-77834, 일어 4 쪽

분류 : 특허

자료 : 웹 조사자료

저자 :

na1)

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자료요약
카테고리 : 비금속무전해 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.11.05
프라스틱의 표면을 염화팔라듐을 함유한 디메틸아세트아미드 또는 디메틸 포름알데하이드 처리한 무전해도금 방법
  • 니켈피막의 내부응력의 위하여 불순물과 온도 pH의 영향을 스트립 음극시험 방법으로 시험하였다. 와트욕은 50 ℃, pH 4.0 일때 도금응력이 가장적었으며, 구리 Cu2+...
  • 현재 가장많이 이용되는 시안화 구리도금 및 황산 구리도금의 욕조성과 성분의 작용에 관하여 설명
  • 아스콜빈산 · Ascorbic acid C6H8O6 = 176.13 g/mol CAS 50-81-7 도금욕의 금속이온 착화제로 사용 참고 WIKI 아스코르브산
  • 디스고 처리는 전기 아연도금 공정에 의한 수소취성을 피하여 파괴되면 곤란한 철강 제품용으로 개발된 크롬프리 고내식성 표면처리 기술이다. 아연 알루미늄을 함유한 ...
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