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히드라진을 환원제로한 텅스텐 함유 코발트의 무전해도금
Electroelss plating of Cobalt Containing Tungsten using Hydrazine as a reducing agent

등록 : 2008.08.19 ⋅ 40회 인용

출처 : 표면기술, 55권 8호 2004년, 일본어 3 페이지

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 합금/복합 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2014.09.10
캡메탈로서 응용목적으로 린이 공석하지않는 히드라진을 환원제로 하용하여, 텅스텐을 함유하고 인을 함유하지 않는 코발트층을 무전해 도금법으로 동소지상에 성막을 검토 [ヒドラジンを還元剤とするタングステン含有コバルトの無電解めっき]
  • 5-설포살리실산을 지지 전해질로 사용하고 DMG 를 착화제로 사용하여 DME 에서 고농도 금 Au 외에 코발트를 측정할수 있다.
  • 전기투석에 의한 도금액재생, 결정석출에 의한 EDTA 회수와 재이용을 포함한 폐액처리에 관하여 해설
  • 6061-Al 합금에 형성된 인산아연 피막은 다양한 농도의 희토류 질산염 (REN) 을 포함하는 인산염 용액에 침지후 전기화학적 측정, 푸리에 변환적외선 (FTIR) 및 주사전자 현...
  • 현재의 반도체 산업, 전자 기기의 제조는, 포토 패브리케이션 기술이 없으면 성립되지 않는다고 해도 과언이 아니다. 포토 패브리케이션이란 사진의 현상 기술을 이용하여 ...
  • 석출물의 피트를 실질적으로 최소화하기 위한 욕 성분으로서 염화칼륨과 염화니켈의 유용성에 대하여 보고하였다. 니켈 욕에서 염화니켈 대신 염화나트륨 또는 염화 암...