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금속입자 분산을 가진 무전해 금속 피막 석출의 공정
Process of electrolessly deposting metal coatings having metallic particles dospersed therethrough

등록 : 2008.08.20 ⋅ 26회 인용

출처 : 미국특허, 1971-3562000, 영어 11 쪽

분류 : 특허

자료 : 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2022.02.13
여기에 금속 입자를 포함하는 무전해도금 금속 피막을 제공하기위한 무전해 금속화 워크 피스, 이러한 프로세스에 의해 생성된 워크 피스 및 실행에 유용한 도금욕을 제공하고 제조하는 프로세스가 여기에 포함되어 있다.
  • 인산염 피막은 인산염 바인더에 금속 및 금속산화물을 첨가하여 형성된 일종의 수성 무기피막이다. 높은 기계적 강도, 우수한 보호 성능 및 소재에 대한 높은 접착력의 장점...
  • 프라스틱상에 도금하는 목적은, 외관에 있어 금속과 동일하며, 기능적으로 내후성, 내마모성, 전도성을 얻을수 있으며, 경량이며 재료면에서 원가가 적게들며, 최근에는 특...
  • 수용성 산성욕으로부터 구리의 전착에 관한 것이며, 구체적으로는 이후에 언급되는 목적을 위해 그러한 욕을를 위한 선택된 첨가제의 제공에 관한 것이다.
  • 도데실벤젠설폰산 ^ Dodecylbenzenesulfonic Acid ^ Sodium alkylaryl sulfonate ^ 라우릴황산소다 CAS No 27176-87-0 CH3(CH2)11ㆍC6H4SO3 = 326.5 g/㏖ 백색의 결정성 분...
  • 시안화아연 도금욕, 징케이트욕, 산성 염화암모늄욕에 대한 불순물 혼입 발생현황과 그 처리방법을 설명