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무전해니켈 도금액에서 착화제가 도금피막에 미치는 영향
The effect of complexiong agent on the deposit characteristics in the electroless nickel plating solution

등록 : 2008.08.22 ⋅ 62회 인용

출처 : 한국표면공학회지, 37권 6호 2004년, 한글 9 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

전준미1) 구석본2) 이홍기3) 박해덕4) 심수섭 5)

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.01.09
무전해니켈도금용액에 사용되는 주요 착화제에 따라 도금액의 온도와 pH를 변화시켜 석출속도및 금속표면에 석출되는 인 석출량과 표면저항 등 도금피막의 특성을 분석하여 각각의 도금액에 사용될수 있는 착화제의 특성을 연구
  • 중인 97~9%인 함유 쉬운작업성 철 또는 비철상의 균일두께도금과 광택 안정성과 연속성 우수
  • 소재와 도금피막 및 박리제의 선정을 설명하고, 소재표면이 손상된 도금피막의 박리방법에 관하여 설명
  • 처리온도는 상온에서 90도에 이르는 고온과 시간은 1~15분에 이르기 까지 여러단계로 분류되어 있으나, 사용방법에 따라 최적합한 조건으로 처리하여야 이상적인 제품이 생...
  • 비아홀을 구성하는 낮은부위의 도체층, 절연층, 표면의 절연층의 위에 무전해 구리도금으로 도체막을 형성한후, 직접 구리전기도금으로 비아필링 하는 방법에 관하...
  • 헐셀 시편 · HullCell Test Sheet 헐셀시험용 음극|1| 판을 말한다. 용도와 응용에 따라 여러가지가 있다. 보통 0.3~0.5 mm 시편이 주로 이용되고 있으며, 너무 두꺼우면 응...