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저인 무전해니켈 도금욕의 착화제 최적화 첨가의 연구
Study of Optimized Complexing Agent for Low-Phosphorus Electroless Nickel Plating Bath

등록 : 2020.11.11 ⋅ 59회 인용

출처 : Electrochemical Society, 152권 10호 2005년, 영어 6 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.02.11
무전해도금 니켈에서 니켈과 인이 결합하는 두가지 메커니즘을 X선형광 분광기, XRF 및 순환 전압전류법 CV 를 사용하여 연구하였다. 도금속도 및 도금조성에 대한 단일 및 이중 착화제 효과에 대한 XRF 및 CV 데이터 결과는 니켈 킬레이트가 인 생성, 즉 니켈과 인 통합에 대한 인터페이스 복합 이종 촉매 메커니즘을 촉매 ...
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