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주석합량이 많은 구리-주석 합금의 비시안 전기도금 공정
Cyanide-free electroplating process of copper-tin alloy with high tin content

등록 : 2013.11.26 ⋅ 20회 인용

출처 : Electroplating & Finishing, 27권 3호 2008년, 중국어 3 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.02.16
주석 Sn 함량이 높은 구리-주석 Cu-Sn 합금을 전기도금하는 공정이 도입되었다. 400 g/L K4P207, 5~12 g/L Cu2P207, 20~35 g/L Sn2P207, 5~10 g/L C6H5Na307 2H20, 30~50 gm K2HPO3, 30~50 gm N(CH2COOH)3, 10~30 g/L complexing agent, 10~20 g/L brightener. 도금욕의 개별성분 함량과 공정조건 (온도, 전류 밀도 ...
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  • 은 Ag 나노입자가 혼탁된 도금액과 석출된 주석/은 Sn/Ag 나노입자 복합 도금피막의 조성, 구조와 나노입자의 공석기구에 관한 설명
  • 리플로우 ㆍ Reflow 부품을 PCB에 실장하고 PCB와 부품과의 전기적 접속을 위해 고온의 열로 솔더(크림)을 용해하여 PCB에 부품을 안정되게 접합하는 공정이다. [인쇄회로]
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