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고 아스펙트비 트렌치내에 있어서 무전해도금 반응의 해석
Analysis of electroless plating reaction in deep recessed trench

등록 : 2008.08.29 ⋅ 32회 인용

출처 : 표면기술, 56권 10호 2005년, 일어 4 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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기타 :

高アスペクト比トレンチ内における無電解めっき反応の解析

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2019.12.07
트렌치 저부에 있어서 착화제종류가 초기석출개시후의 무전해니켈도금석출반응의 영향에 관하여 전기화학적 방법으로 해석
  • 50 년전 Jacquet 과 Elmore 의 초기 조사이후, 전해연마는 다양한 금속제품의 마감에 유용한 도구가 되었으며 합리적인 수준의 상업적개발과 유용성을 달성하였다. 본질적으...
  • 인듐은 19 세기 후반부터 장식용도 및 베어링 용도로 이용되고 왔지만, 최근에는 화합물 반도체 전극, 액정셀 납땜 저융점 합금 등 전기·전자 산업분야에서 이용이 증가하고...
  • 니켈 텅스텐 인 3원합금계 합금피막에 의한 결정화 진행과 무전해 니켈피막의 가능성에 관한 검토 아래와 같은 표준욕을 건욕하였다 0.027 M NiSO4 6H2O | 0.068 M C3H4(OH)...
  • 무전해 니켈도금은 전자 응용 분야에 광범위한 도금특성을 생성하기 위해 개발되었다. 우수한 납땜 성, 전도성, 부식방지, 브레이징에 대한 수용성, 와이어 및 다이본딩을 ...
  • 6 개의 Cu2 착화물 니트릴로트리 아세트산 (NTA) > N,N,N',N' - 테트라키스 - (2-하이드록시프로필) - 에틸렌디아민 (Quadrol) > 글리세롤 > L+-주석산~자당 > DL+-- 주...