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고 아스펙트비 트렌치내에 있어서 무전해도금 반응의 해석
Analysis of electroless plating reaction in deep recessed trench

등록 2008.08.29 ⋅ 46회 인용

출처 표면기술, 56권 10호 2005년, 일어 4 쪽

분류 연구

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高アスペクト比トレンチ内における無電解めっき反応の解析

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2019.12.07
트렌치 저부에 있어서 착화제종류가 초기석출개시후의 무전해니켈도금석출반응의 영향에 관하여 전기화학적 방법으로 해석
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  • 염화구리 에칭 용액에서 구리농도는 125~175 g/L 로 유지된다. 이것은 1.2393~1.3303 의 비중에 해당 된다. 합리적인 마이크로 에칭속도에 도달하기 위해, 마이크로 에칭 용...
  • 규불화수소산 Hydrofluorosilicic acid, Fluorosilicic acid CAS No 16961-83-4 H2SiF6 = 144.08 g/mol 무색투명액상 시판 공업용 40% [크롬도금]의 촉매 참고 플루오르규산...
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  • 알루미늄 Al 단결정을 만들어, 그 단결정에서 {100}, {110}, {111} 면의 각 결정면에, 징케이트 처리와 무전해 니켈‐인 Ni-P 도금을 하여, 아연 Zn 및 Ni-P 도금막의 석...