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플라즈마 에칭 및 PdCl₂/SnCl₂촉매조건이 무전해 구리(동)도금 피막의 성능에 미치는 영향
Effect of plasma etching and PdCl2/SnCl2 catalyzation on the perdormance of electroless Plated copper layer

등록 : 2008.09.04 ⋅ 73회 인용

출처 : 한국의류학회지, 27권 7호 2003년, 한글 8 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 비금속무전해 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.11.15
필름의 화학적 물리적 에칭방법과 무전해도금법에서 부도체 표면에 도금이 가능하게 하는 핵심단계인 촉매활성화 단계의 최적조건 확립을 통하여 이를 전처리조건이 구리/PET간의 접착력에 미치는 영향및 전자파차폐 효과를 고찰

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