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DMAB용액에 의한 구리 패턴의 선택정 활성화법
Electroless Nickel Plating on Copper Fine Patterns by Selective Activation Process

등록 2014.06.18 ⋅ 28회 인용

출처 회로실장학회지, 12권 1호 1997년, 일어 5 쪽

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DMAB溶液による銅パターンの選択的活性化法

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.11.18
환원제용액에 의한 구리 패턴을 선택적으로 활성화함에 따라, 선택석출성이 우수한 무전해니켈 미세 패턴의 형성 가능성에 관하여 검토
  • 황산구리 CuSO4 가 없는 글리콜 및 SPS 의 산성용액의 전압 전류밀도는 CuSO4 용액에 비해 산화피크 위치와 높이가 다르다. 이 데이터는 CuSO4 가 용액에서 이러한 유기물과...
  • 전기 도금된 아연-망간 합금도금은 다른 아연 합금에 비해 향상된 내식성을 특징으로 하며, 이는 상당한 이점을 제공한다. Zn-Mn 합금 도금의 전착을 위한 매개변수를 최적...
  • DURAPOSIT SMT 810은 AUROLECTROLESS Immersion Gold와 함께 사용하도록 특별히 제조 된 무전해니켈 시스템입니다. AUROLECTROLESS SMT 520 도금과 결합된 DURAPOSIT SMT 81...
  • 억제제의 표면화학을 연구하였으며, 구리 착화를 형성하는 다양한 억제제를 비교하기 위해 사용되어 왔다. 실험실의 테스트에는 온도 및 침지시간과 관련하여 최상의 코팅방...
  • 무전해 Co-Cu-P 폐 도금액의 재사용에 대해 조사하였다. 아연화 처리후 코발트 촉매의 처리는 코발트 촉매처리를 하지 않았을 때 보다 도금시간이 연장되었다. Batch type ...