도금 첨가제 제조 원료약품 - 무전해 니켈-인 도금에서의 인의 분포

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무전해 니켈-인 도금에서의 인의 분포

Distribution of phosphorus in electroless nickel-phosphorus deposits

등록 : 2009.04.10 ⋅ 29회 인용

출처 : 전기화학, 70권 7호 2002년, 영어 4 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

Katsuhiko TASHIRO¹⁾ Seiji YAMAMOTO²⁾ Junichi NAKAZATO³⁾ Hideo HONMA⁴⁾

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카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.11.07

초기 단계와 도금조건의 정상상태에 따른 전해니켈 시막의 인 분포와 함량을 설명 하였다. EPMA, GDOES 및 AES 측정결과, 초기단계에서 증착된 피막의 인광 함량이 다음 정상 상태 도금보다 높은 값을 나타내는 것으로 나타났다.

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