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화학구리 도금의 국부 아노드반응 및 국부 캐소드 반응에 있어서 기본조건의 영향
Effects of the main conditions of chemical copper plating on its Local anode reaction and cathod reaction - electrochemical studies on chemical

등록 : 2009.12.31 ⋅ 24회 인용

출처 : 금속표면기술, 17권 1호 1966년, 일어 6 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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기타 :

化学銅メッキの電気化学的研究 (第2報) - 化学銅メッキの局部アノード反応および局部カソード反応に及ぼす基本条件の影響

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2021.01.21
무전해구리도금의 주요조건이 국소 양극 및 음극 반응에 미치는 영향을 전위 운동 분극법을 사용하여 조사했으며 주요 조건은 용액의 pH, 용액의 성분 및 온도, 파라 포름알데하이드는 용액에서 포름 알데하이드의 공급원으로 사용되었다
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  • 내열성이 높은 수지표면에, 도금법으로 회로를 형성하는 성막기술은 여러 방법이 있으나, 대부분의 회로성형에 사용되는 구리배선상의 마무리처리로서, 무전해니켈도금법을 ...
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