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Kazuhisa ISHIBASHI 2건
치환구리막의 생성기구에 관하여
The Mechanism of the formation of galvanically substituted CU-Films
자료
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분류
치환구리막 ⋅
자료요약
카테고리 : 치환도금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.10.18
체심 입방형 금속에 화학적 치환석출로 성장했다 면심 입방형 금속막에 대한 기본질과 결정학적 관련성 및 생성기구등 구조를 조사하기 위해 저자가 행한 철표면에 석출 성장시켜 치환 구리막을 제거 하였다.
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팔라듐석출에 있어서 비소의 효과를 검토하고, 그 반응기구에 관하여 고찰 1.아비산소다의 첨가눈 팔라듐의 석출전위를 서서히 귀한쪽으로 이동하여, 보다 작은 과전압으로 ...
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종래의 크롬산-황산형의 경질크롬도금욕 에서 단독 또는 소량의 크롬과 함께 철을 도금하는 조건이 있습니까?
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아연-니켈합금도금막이 도금 직후 큰 압축 왜곡을 나타내거나 그 도금막의 왜곡이 합금막으로 부터의 아연의 일부용출에 따라, 압축에서 인장으로 전환되는 현상에 관하...
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Zn(ii) 이온, Sn(ii) 이온, 지방족 카복실산, 및/또는 이들의 알칼리염, 음이온성 계면활성제, 비이온성 계면활성제, 선택적인 방향족 알데하이드, 방향족 케톤, 방향족 카...