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검색글 무전해니켈 175건
형광 X-선 (XRF) 측정기를 사용하여 무전해 니켈도금의 인함량의 직접측정
Direct Determination of Phosphorus Content in Electroless Nickel Plating Using X-ray Fluorescence (XRF) Spectroscopy

등록 : 2014.08.08 ⋅ 25회 인용

출처 : APEX EXPO, na, 영어 8 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2020.12.21
무전해도금 공정은 성능, 신뢰성 및 비용 효율성으로 인해 인기가 있으며,이 공정은 형상에 관계없이 균일한 도금 형성, 우수한 내식성, 우수한 경도 및 마모, 비전도성 재료에 도금할수있는 능력과 같은 고유한 도금특성을 가지고 있다. 가장 일반적으로 사용되는 무전해 도금공정은 니켈-인 욕을 사용하는 무전해니켈 ...
  • 분극저항 측정에 따라 다휄스로프와 부식속도의 동시결을을 시험하고, 부식억제제의 억제능을 평가하고, 부식억제제 첨가에 의한 전기화학적 파라미터의 변화에 관하여 조사
  • 이 연구는 상용 전기도금 첨가제가 니켈 전착제의 특성에 미치는 영향을 조사하였다. 부분실무 설계에 따라 서로 다른 농도의 첨가제 및 서로다른 도금 시간을 갖는 와트욕...
  • MPS
    MPS ^ 3-mercapto-1-propysulfonate, sodium salt CAS : 17636-10-1 C3 H7 O3 NaS2 = 178.7 g/㏖ 순도 : 95 % 성상 : 백색분말 MPS 는 구리 표면의 부식 방지 능력을 향상시...
  • 반도체 제조 공정의 세정 용도용으로 개발된 전해 황산 기술을 크롬 프리 에칭 처리 공정으로서 적용을 시도하였다. 전해 황산이란 고농도의 황산을 전기분해하여 퍼옥소이...
  • 1 mol/dm3 과산화 이황산암모늄을 이용한 구리의 에칭속도에 있어서 결정구조의 영향을 Scanning Probe Microscope (SPM) 과 Electron Back Scatter Diraction Patterns (EB...