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무전해도금 - 제19장 수용액으로부터의 금속박막의 화학석출
Chapter 19 Chemical Deposition of metallic from Aqueous solution

등록 2010.05.11 ⋅ 43회 인용

출처 Electroless Plating, NA, 영어 7 쪽

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카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.12.15
화학도금은 금속을 도금하기 위해 전극이나 외부 전원이 필요하지 않은 프로세스입니다. 금속도금을 소재에 화학적으로 적용하는 방법에는 여러 가지가 있다. 여기에는 변위 (침지), 접촉, 자가촉매, 핫디핑, 금속 스프레이 및 화학 기상증착 (CVD) 이 포함된다. 금속이 수용액으로 부터 도금되는 공정 중, 단지 변위, 접촉 ...
  • 촉매표면 (t1) 과 용액의 접촉에 의해 석출이 생성되기 때문에, 매우 우수한 균일전착성을 얻을 수 있다. 또한 석출피막에 인(차아인산염) 이 존재하면 니켈에 대해 뛰...
  • 첨가제는 플래티 그 수조에서 사용되며 원하는 품질을 유지하려면 보충해야 한다. 또한, 대부분의 제형은 도금 공정을 향상시키기 위해 하나 이상의 계면 활성제를 포함한다...
  • 본 발명은 알루미늄 또는 알루미늄 합금 소재에 침지 징케이트 피막을 도금한 후 선택적으로 징케이트 도금된 알루미늄 또는 알루미늄 합금 소재를 도금하는 단계를 포함하...
  • 순수한 아연 및 아말감화된 시료의 아노드 분극거동에 있어서 KOH농도, 온도의 영향을 전위주사도를 기반으로하여 검토하고, 알칼리 용액중의 아연의 아노드 용해기구를 밝...
  • 가격적으로 저렴하고, 작업환경상 문제가 없는 에르솔빅산을 환원로 하여, 전기화학적 분극측정에 따라, 금 Au 의 캐소드 환원반응, 환원제의 양극산화 반응에 관하여 검토