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반도체 D Ram 용 포르마린 Free 무전해 구리(동)도금액의 국산화 기술개발에 관한 연구 (최종 보고서)
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등록 : 2010.05.18 ⋅ 41회 인용

출처 : 산업자원부, 2002.9., 한글 77 쪽

분류 :

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

전성욱1) 심명청2) 전상옥3) 조형우4) 문영태5)

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2020.11.15
현재 당사에서 이미 개발하여 공급 중에 있는 반도체상의 회로형성을 위한 무전해구리도금액 제조기술을 기본으로 하여 환경 오염물질인 포름알데하이드가 배제되고 도금피막의 각종 기능성의 확보가 가능한 도금액을 개발하여 반도체 관련분야의 수입대체 효과를 꾀하고자 한다. 아울러 본 기술은 세계적으로 미국...
  • 무전해 니켈-인 Ni-P (EN) 도금공정에 대한 더많은 동역학 정보를 얻기위해 편광곡선을 사용하여 서로 다른 도금액에서 마그네슘 Mg 합금에 대한 EN 도금의 전기화학적거동...
  • 크로낙법 · Cronak Method 아연상의 Chromating 처리의 고전적인 방법으로 당초에 "크로낙" 이라 불렀다. 200 g/L : sodium chromate 와 6 ㎖/L 의 황산으로 이루어진 [크로...
  • 무전해도금은 소재에 수용성 금속 이온을 자동촉매 또는 화학적환원을 의미한다. 이 과정은 금속의 석출이 자동 촉매적이거나 연속 석출이라는 점에서 침지도금과는 다...
  • ABS 수지의 도금이 일본에서 공업화된지 약5년의 세월이 경과했고, 그 기술은 확립되어 훌륭한 공업으로 성장했다. 이들 분야에서 더욱 까다로운 품질 보증 기준이 요구되고...
  • 두께측정법가운데 화학적 용해의 원리를 응용한 방법으로 JIS에 규정된것을 중심으로하여 측정원리, 측정방법, 문제점등에 관하여 해설