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저응력 무전해 팔라듐 도금과 그 특성
The Low stress electroless Palladium Plating and the Property of the deposits

등록 : 2010.05.28 ⋅ 48회 인용

출처 : 써킷테크노로지, 7권 6호 1992년, 일어 8 쪽

분류 : 연구

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카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2021.12.05
낮은 응력의 무전해 팔라듐-인 도금의 최적욕 조성과 도금 조건을 검토했다. 응력은 차아인산염 농도 및 pH에 크게 의존하고 차아인산염 농도가 높을수록, 또한 pH가 낮을수록 응력은 감소한다. 안정제도 응력에 영향을 주어, 티오 글리콜산은 도금 후 시간 경과에 따른 피막의 응력을 증가 시키지만, 탈륨은 응력에 영향을...

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