검색글
왕리 1건
반도체 공정에서 구리기둥 주석범프의 전해도금 형성과 특성
Formation and Properties of Electroplating Copper Pillar Tin Bump
자료 :
-
관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.
- 분류 : 범프도금 ⋅
자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.12.04
구리기둥의 산화방지 대안으로 주석측벽 산화방지 보호막 구조의 범프제작, 제안된 구조의 도금기법을 비롯한 제작공정과 방법의 소개, 기존의 CPB-구리기둥 범프와 주석측벽 보호막 구조의 개선된 CPTB-구리기둥 주석범프의 전기적 특성에 대하여 비교, 분석 및 고찰
-
비밀글입니다.
-
Pt (NO2)2-4 가 메탄 설폰산에 용해되면 아질산염 이온이 물 리간드로 대체되고 리간드치환 정도는 온도, 열처리시간 및 산농도에 따라 달라진다. 최종 아질산염 리간드는 ...
-
전석막에 필적하는 특성을 가지며, 미세화의 이점을 가진 무전해 팔라듐-인 Pd-P 피막의 개발 PdCl2 NaH2PO2 NH4OH Thiodiglycolic acid NiSO4 0.01 mol/l 0.20 mol/l 2.96 ...
-
올소규산소다 ^ Sodium Ortho Silicate 강알칼리로 저온에도 세정력이 좋아 전해탈지 등에 이용되나, 탈지후 소재표면에 규산염 피막을 만들어 후공정에서 완전히 제거되지 ...
-
종래에 사용되던 징케이트법에 관하여 검토한 결과, 도금까지의 전 공정에 용존산소를 낮게함에 따라 밀착성의 향상이 가능하였다.