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무전해 도금법을 이용한 주석-구리 Sn-Cu 범프 형성에 관한 연구
Fabrication of Sn-Cu Bump using electroless plating method

등록 : 2014.02.23 ⋅ 27회 인용

출처 : Micr.Pack.Soci., 15권 2호 2008년, 한글 5 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 무전해도금기타 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2020.12.13
구리와의 치환반응을 고려하고 주석의 산화를 방지하디 위하여 산성 무전해주석도금약을 선택하고, 구리 via 윙 무전해구리도금과 무전해 주석도금을 한후 reflow 시 크기가 일정한 Sn-Cu 납땜범프를 얻을수 있었다.
  • 몰드 표면에 용탕과 몰드의 마찰을 고려하여 니켈도금을 하였을대 내부의 열변형및 열응력 계산을 위하여 접촉면의 온도분포, 시간에 따른 잉곳의 이동량과 온도분포를 상용...
  • 무전해 NiP 도금 중 결절은 팔라듐 촉매법을 사용할 때 초기 단계에서 관찰되었지만, 철 스트립 접촉법을 사용할 때는 관찰되지 않았다. 두 가지 방법을 모두 적용했을 때 ...
  • 무전해니켈의 반응 ^ Electroless Nickel Reaction of Na-Hyphophosphite 무전해 니켈도금욕에서의 중요 반응 NiSO4 + NaH2PO2 ↔ Ni0 + NaH2PO3 + H2SO4 높은 ㏗ 에 의한 반...
  • 도금의 광택제 손상없이 비어(via) 충진도금을 형성하기에 적합한 구리 전해도금법이 제공된다. 이 방법에서, 구리전기도금은 전이금속 산화물의 존재하에 수행된다
  • MEMS는 반도체 집적회로의 구조 기술을 기본으로 하고, 전자, 기계, 광, 재료 등 다양한 기술을 부품들이 궁극적으로 추구하는 목표를 모두 만족시킬 수 있다는 장점을 ...