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Wet Electro/Electroless Plating Process Study Note
자료 :
자료요약
습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 검색(로그인 필요)은 아래 내용을 참조하여 주시기 바랍니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 / 구리-아연 합금 → 황...
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전통적인 수용액에서의 전해석출 백금막과 백금합금막을 광범위하게 사용하기 위하여 그 이용방법을 조사 하였다.
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미세금형등의 제작에 이용되는 마이크로머신기술에 관하여 설명하고, 반으예와 최신의 MEMS에 있어서 전주기술에 관하여 소개
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자동촉매 고속 크롬도금 ^ Self Regulating High Speed Chromium Plating Bath SRHS욕|1| 크롬 도금욕중에 용해성이 극히 낮은 "황산스트론듐" 의 황산근 SO4-- 의 용해도를...
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반도체에 있어서 테크노로지 노드 90nm 세대의 동배선도금장치가 요구되어 프로세스 성능으로, 미세화된 다마신구조의 봉공성, 면내균일성, 도금막 단차의 저감등이 있다.