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검색글 Katsuhiko TASHIRO 11건
무전해구리 도금의 석출형태 제어
Morphology Control of Electroless Copper Plating Deposit

등록 2014.11.17 ⋅ 23회 인용

출처 일렉트로닉스실장학회지, 8권 6호 2005년, 일어 9 쪽

분류 해설

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저자

기타

無電解銅めっきの析出形態制御

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.01.21
무전해구리 도금욕의 기본욕 조성과 첨가제 농도를 변화하여, 암반형 이외의 플레이트형 및 입형, 돌기형의 피막형대를 만들고, 무전해구리 도금욕 조성과 피막 형태에 관하여 검토
  • 은도금 두께층의 초기 경도의 변화를 조사하고, 단계적 열처리에 있어서, 은 Ag 도금 경도의 변화를 조사하고, 결정립경, 결정 배향성등의 결정구조와 경도의 가열에 따른 ...
  • 지구환경 개선의 요구가 높아지는 가운데, 자동차 도장에서도 VOC 저감, 유해물질 절감, 폐기물 재활용, 지구 온난화에 대한 대응 (CO 발생의 감소) 등 친환경 도료의 개발...
  • PZT 막에대해 처음으로 CMP 공정을 적용하여 실리카와 세리아와 같은 슬러리 연마제의 종류 및 pH의 변화에 따른 PZT 박막의 연마 특성을 고찰
  • 새로운 검색방법의 하나로 초임계전류중의 아닐분석방법을 검토
  • 전위차 · Potential Difference 두 점 사이의 전위의 차 또는 영전위에서 어떤 점까지의 전위(전압)를 말한다. 도금에서는 전류가 공급되는 [정류기] 단자로부터 [라크|걸이...