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L-주석산 착화욕에서 주석-은 합금도금
Sn-Ag alloy electrodeposition from L-tartaate complex bath

등록 2008.08.11 ⋅ 61회 인용

출처 표면기술, 49권 7호 1998년, 일어 5 쪽

분류 연구

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저자

Hidemi NAWAFUNE1) Kazuki IKEDA2) Hiroshi KITAMURA3) Shozo MIZUMOTO4) Takao TAKEUCHI5) Kazohiro AOKI6)

기타

N-acetyl-L-Cysteine

자료

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자료요약
카테고리 : 석납/합금 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2020.12.24
L-주석산을 착화제, N-세틸 -L-시스인을 첨가제로한 도금욕에 관하여, 주석-은 공석조성의 피막을 만드는 조금조건과, 석출피막의 결정구조 및 융해특성을 검토하였다.
  • 100 도 이하의 수용액중에 스피넬형 자성막을 직접 형성하였고, 열처리가 필요없어 프라스틱이나 나노다층 구조등, 내열성이 없는 물체를 소재로 이용하는 새로온 자성박막 ...
  • cBN 입자의 다양한 부피 비율 (2.45~45.66 vol.%)을 갖는 Ni-입방정 질화붕소 (cBN) 복합 도금이 강철에 대한 전착 방법을 통해 제조하였다. 복합 도금에 대한 cBN 입자 마...
  • 브러시도금은 기계수명을 연장하고 마모된 장비 및 부품을 효율적으로 수리했다. 그러나 경질크롬 브러시 공정이 6가 또는 3가 형으로 제공되지 않았기 때문에 적용이 제한...
  • 도금액은 광택제, 억제제 및 캐리어 (CARRIER) 의 첨가물을 함유하고 있으며 도금액은 구리배선을 가지는 반도체 칩과 인쇄회로 기판의 구리도금에 사용된다. 특히 ...
  • 내용중 이 기준은 교류 1000 V 이하 및 직류 1500 V 이하의 전기․전자 제품을 구성하는 성형 부품 (이하 ‘부품’이라 한다) 을 대상으로 한다. <부표> 유해원소의 사용제한 ...