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전석막의 밀착성의 정량적평가방법의 검토 - 설파민산욕에서의 Ni 전석막의 밀착성
Quantification of Adhesion Property of Electrodeposited Film - Adhesion of Ni Electrodeposited from Sulfamate Solution -

등록 2015.03.24 ⋅ 31회 인용

출처 표면기술, 56권 7호 2005년, 일어 6 쪽

분류 연구

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電析膜の密着性の定量的評価方法の検討 -スルファミン酸浴からのNi電析膜の密着性-

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.12.04
원통형 접합 전극의 치수 측면에 전석을 하여, 그 전석에 의한 금속간 접합을 이용하여, 전석막의 밀착성을 정량적으로 평가하는 방법을 검토하였다. 또, 이 수법을 이용하여, Al, Cu 소지상에의 Ni 전석막의 밀착력을 정량적으로 평가하고, 밀착성에 미치는 요인을 조사했다.
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  • Brenner와 Riddell이 소개한 무전해 도금은 놀랍고 다양한 기술입니다. 특히 니켈인 합금 도금은 경도가 높고 내화학성이 좋기 때문에 상업적으로 사용되어 왔다. 최근 자기...