검색글
Shio TAKAHASHI 1건
TOF-SIMS 에 의한 도금막중에 혼입된 도금첨가제의 거동 해명
Research on behavior of an electro-plating additive in electro-plated films by TOF-SIMS
자료
-
관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.
자료요약
카테고리 : 전기도금기타 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2015.01.16
TOF-SIMS 와 AES 의 내부방향분석과 STEM 관찰, STEM/EDS 분석에 의한 도금막의 층구조, 농도변화를 밝히는 연구
-
무전해 Au 도금욕을 사용하여 플립칩 본딩을 위한 Au 마이크로범프 어레이의 형성을 조사하였다. 일반적으로 무전해 Au 석출은 낮은 속도를 제공하여 높이가 5μm 이상인 Au ...
-
아연 아세테이트와 아세트산이 함유된 도금욕에서 철강소재에 아연 전기도금의 욕조구성, 전류밀도, 온도 및 중첩 사인파 a.c.의 다양한 조건을 조사하였다. DC 에서 이러한...
-
지금까지 개발해 온 Ni-W 전석 합금을 중심으로 도금 기술의 특징을 이용한 고강도 나노 결정 · 비정질 합금의 개발과 이들 조직 제어에 의한 새로운 재료 강도 물성의 발현...
-
넓은 전류밀도의 범위에서 전해가 가능한 시안화 황동전해액을 사용하여 전해조건의 변화에 따른 전착층의 우선배향의 형성과 조직특성을 조사하고 음극과전압 및 [[전류효...
-
일본특허를 중심으로한 마그네슘의 새로운 표면처리법을 소개