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무전해 석출 프로세스에 있어서 환원제 붕소산 BH4(-)에 대한 구리 Cu 및 팔라듐 Pd 표면의 촉매작용 기구의 이론적 해석
Theoretical Analysis of Catalytic Reaction Mechanism of BH4(-) on Cu and Pd Surface in Electroless Deposition Process

등록 : 2016.12.05 ⋅ 32회 인용

출처 : 표면기술, 66권 12호 2015년, 일어 4 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

無電解析出プロセスにおける還元剤BH4-に対するCu及びPd表面の触媒作用機構の理論的解析

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자료요약
카테고리 : 무전해도금통합 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2021.02.18
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