로그인

검색

검색글 Eng. and App. Sci. 1건
무전해구리 석출에 대한 최근의 진보 - 평가
Recent Advances in Electroless Copper Deposition - A Review

등록 2017.12.01 ⋅ 32회 인용

출처 Eng. and App. Sci., 5권 8호 2016년, 영어 18 쪽

분류 해설

자료 있음(다운로드불가)

저자

기타

International Journal of Advanced Research in Engineering and Applied Sciences

자료

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류
자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2023.08.11
무전해구리도금의 최근 발전을 검토하고 착화제, 환원제 및 도금속도에서 첨가제의 역할에 대해 논의하였다. 환경문제로 인해 무전해구리 도금을 위한 시안화물 및 EDTA 가 없는 메탄설폰산욕 개발을 하였다. 친환경 폴리하이드록시 화합물은 EDTA 및 기타 일반적인 킬레이터를 대체하는 착화제로서 더 중요하다...
  • 다양한 조건에서 전기화학적 도금으로 얻은 아연-니켈 Zn-Ni 합금의 화학적 조성과 상 구조를 조사했다. 합금은 직류 및 펄스전류에 의해 염화액으로부터 회전디스크 전극과...
  • 금속 와이어 표면 스케일의 특성, 산 반응 메커니즘, 영향 요인 및 산세 공정 현황을 제안하였다. 기존 산세척 공정은 효율이 낮아 금속선 제품 표면의 산화철을 완전히 제...
  • 이중 (이층) 크롬도금 ^ Duplex|1| Chrome Plating 물성이 다른 크롬도금 피막을 2층으로 도금하여, 내식성ㆍ내마모성ㆍ광택 등을 향상시키는 크롬도금을 말한다. 도금방법...
  • 레벨링, 접착력, 연성 및 침투력이 개선된 고산 / 저금속 구리 전기도금조를 위한 공정 및 구성. 욕은 알코올 에폭시 또는 비스페놀 A로부터 유도 되고 에톡시 및 프로폭시 ...
  • Qualitative Approach to Pulse Plating 1. Introduction 화학적인 합성에 대조적으로 전해에서는 누구나 주어진 전류밀도를 조작하여 시스템의 반응속도를 제어할 수 있고,...