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전류펄스 도금법을 이용하여 만든 Ni/Cu 및 Ni/Ni-P 다층막의 단면관찰과 내마모성의 두께 의존성
Cross-sectional Observation of Ni/Cu and Ni/Ni-P Multilayer films Electrodeposited with Pulses of a Constant Current

등록 : 2018.05.02 ⋅ 17회 인용

출처 : 표면기술, 68권 3호 2017년, 일어 6 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

電流パルスめっき法を用いて作製したNi/CuおよびNi/Ni-P多層膜の断面観察と耐摩耗性の膜厚依存性

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분류 :
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자료요약
카테고리 : 전기도금기타 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2020.12.29
저전류 펄스와 고전류 펄스를 상호 인가함에 따라 형성된 20~100 NM 두께를 가진 니켈 Ni 단층과 구리 Cu 단층이 상호 적층된 다층막구조

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