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전기 구리도금막의 내부응력 및 결정성장에 있어서 할로겐화물 이온의 영향
Effects of Halide anions on the crystal growth and internal tensil stress in electroplated copper deposits

등록 2008.09.02 ⋅ 60회 인용

출처 표면기술, 55권 6호 2004년, 일본어 5 쪽

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電気銅めっき膜の内部応力および結晶成長に及ぼすハロゲン化物イオンの影響

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.05.27
구리도금막의 단면관찰 및 도금막의 각종 할로겐화물 이온이 전기 구리도금막의 결정성장, 내부응력 및 구리석출기구에 있어서 영향에 관한 비교검토
  • 구리도금표면상에 관철된 PEG 분자에 관한 상세한 검토
  • 정밀공업분야에 있어서 정밀세척기술의 탈지세척에 이용되는 합성용제류의 사용이 엄격히 규제되고있어, 이의 현황과 금후의 탈지세척의 동향에 관하여 설명
  • 도금폐수 중 크롬계 폐수를 전해법으로 처리하여 크롬을 비롯한 중금속을 전극사이에서 일어나는 전기화학적인 반응을 이용하여 제거한후 용수로 재사용하는 방법에 관한 연구
  • 수십년간 전자부품용 무전해 또는 전기도금을 이용하여 개발한 연질금 Au 도금막, 경질금 Au 도금막을 중심으로 하여, 이 장점과 과제를 설명하고, 각종 금도금에 관하여 소개
  • 알루미늄 (Al) 합금이 다른 내식성 부동태 합금에 비해 현저하게 비한 국부부식 임계전위를 가지는 것에 의한 국부부식 거동의 특징에 대해 설명한다.