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전기 구리도금막의 내부응력 및 결정성장에 있어서 할로겐화물 이온의 영향
Effects of Halide anions on the crystal growth and internal tensil stress in electroplated copper deposits

등록 : 2008.09.02 ⋅ 36회 인용

출처 : 표면기술, 55권 6호 2004년, 일본어 5 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

電気銅めっき膜の内部応力および結晶成長に及ぼすハロゲン化物イオンの影響

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.05.27
구리도금막의 단면관찰 및 도금막의 각종 할로겐화물 이온이 전기 구리도금막의 결정성장, 내부응력 및 구리석출기구에 있어서 영향에 관한 비교검토