검색글
김상범 1건
저농도 무수크롬산 용액에서 전해도금된 크롬(Cr) 도금층의 성장거동
A study on the Cr nuclea growth electrodeposited in low cincentration
자료 :
-
관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.
분류 :
저농도크롬욕 ⋅
자료요약
카테고리 : 크롬/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.01.26
저농도 크롬 Cr 도금액 조건에서 도금된 Cr 층의 표면특성을 분석하고 그 결과를 고농도 Cr도금액 조건에서 도금된 Cr 층의 특성에 대해 비교 분석
-
무전해니켈 도금조 ^ Electroless Nickel Plating Bath 도금조 일반 산성욕 (중~고인) : 티타늄, SUS 316, 304 및 P/P 질산 박리 가능한 재질 가급적 매끄러운 연마 재질 67...
-
몰리브덴-망간 세라믹 소재상의 도금 ^ Plating on Molybenium-Manganess Metallized Ceramic 도금공정 1. [TCE] 증기 탈지 - 증기 블라스트ㆍ알칼리 탈지 2. 패턴 외의 몰...
-
범용 전자현미경의 분해능과 조작성이 용이한 방향으로 진행하여, 저전압 영역을 포함한 셀형태 및 아니온 함유량이 전해액과 전해전압등의 전해조건에 의존성을 검토
-
계면활성제 1. 양친매성 및 계면활성제 2. 계면활성제 원료 3. 음이온성 계면활성제 4. 비이온성 계면활성제 5. 양이온성 계면활성제 6. 기타 계면활성제
-
HF-NH4F 버퍼용액에서 CuCl2-HNO3 화학을 사용하는 산성기반 무전해 구리 Cu 도금 시스템을 설명하였다. 질산의 도움으로 Cu 시드 레이어를 삽입하지 않고도 SiO2 / Ta / Ta...