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L-히스티딘 첨가에 의한 아연전석 및 구리전석의 다이나믹스에 주는 영향
The Influence of the Additional of L-Histidine into the Plating Bath of Zinc electrodeposition and Copper electrodeposition on the Dynamics

등록 2019.11.07 ⋅ 25회 인용

출처 표면기술, 69권 6호 2018년, 일어 2 쪽

분류 연구

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저자

기타

L-ヒスチジン添加による亜鉛電析及び銅電析のダイナミックスに与える影響

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자료요약
카테고리 : 아연/합금 | 글입력 : 황산 | 최종수정일 : 2020.11.06
피로인산욕을 착화제로한 L-히스티딘을 첨가할때, 아연 및 구리도금에 주는 물성과 표면형태에의 영향을 전자현미경 및 전류전위곡선으로 관찰 측정 하였다.
  • 구리베릴륨 부품을 열처리하면 표면에 산화막이 생성된다. 표면 산화물은 베릴륨산화물 (BeO) 과 여러 구리산화물의 혼합물이다. 이 피막의 구성과 두께는 온도와 용광로 분...
  • 무전해 구리도금욕은 수용성 구리염, 착화제, 인산 또는 아인산염으의 환원제로 구성된다. 차아인산을 사용하는 기존의 산성욕에 비해 균일한 구리 막을 균일한 효율로 도금...
  • MIL-T-10727C / 용융 또는 전기 주석도금 sc270306014.pdf Mil-A-63576A / 테프론 양극산화 sc270306013.pdf MIL-A-8625F / 황산욕 양극산화 sc270306012.pdf MIL-DTL-16232...
  • 금속용 무전해니켈도금 안정제 건욕시 첨가량 ENP-6590 건욕시 → 첨가량 25 ml/l 보충시 첨가량 ENP-6590 연속작업시 보충량 → 100 ml/ 1 MTO 작업개시전 도금액보충과 함께...
  • 아연계 표면처리 강판의 방청기구 해명과 일본 철강협회의 연구결과를 중심으로 부식기구에 관하여 설명