로그인

검색

검색글 11122건
환원 첨가제로 L-시스테인을 무전해금 Au 도금에 사용과 그 석출 기구
Electroless Gold Plating Using L-cysteine as Reducing Agent & its Deposition Mechanism

등록 2020.01.06 ⋅ 46회 인용

출처 Plating & Surface Finishing, Apr 2003, 영어 5 쪽

분류 연구

자료 있음(다운로드불가)

저자

T. Takeuchi1) Y. Kohashi2) D.-H. Kim3) H. Nawafune4) M. Tanikubo ⁵) S. Mizumoto ⁶)

기타

Plating & Surface Finishing • April 2003

자료

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

자료요약
카테고리 : 금/Au | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2024.08.04
무전해금도금 용액에서 메르캅토 석신산 착화물과 L-시스테인을 환원제로 사용한다. 이 과정에서 중성 pH 에서 도금되는 시안화물은 사용하지 않았다. 무전해금 Au 도금 공정은 부드러운 광택금도금피막으로, 니켈의 혼입이 최대 100 ppm 까지 도금액은 분해되지 않고, 도금액에 대한 석출 메커니즘도 연구하였다.
  • 철의 부식 ㆍ iron corrosion 금속과 산의 반응 모든 산에는 공통적으로 수소 이온 (H+) 이 들어 있다. 수소 원자도 전자를 내놓기를 좋아하지만 대분의 금속보다 그 힘이 ...
  • 금 Au 합금의 전착공정이 몇년 동안 사용 가능했지만 지금까지 전자 산업에서 거의 적용되지 않는다. 이 기사는 10월 암스테르담에서 개최된 제9차 세계 금속 표면처리 회의...
  • 웨트에칭 드라이에칭
  • PCB 제조에서 가장 일반적으로 사용되는 금속화 기술인 무전해 구리는 현대 생태학적 요구사항을 충족해야 한다. 주요 관심사는 환원제로 독성 포름알데하이드를 사용하는 ...
  • 도금법에 의한 비평위상형성에 관하여 설명하고, 가열에 의한 구조변화와 물성변화에 관하여 실제 연구대상으로한 함금계를 중심으로, 금속학적관점에서 연구한 결과를 설명