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Cu In Se2 박막 열처리와 펄스전기 도금
Pulse-plating electrodeposition and annealing treatment of CuInSe2 films

등록 2009.05.17 ⋅ 50회 인용

출처 Trans. Nonferrous Met. Soc., 18권 4호 2008년, 영어 6 쪽

분류 연구

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저자

LIU Fang-yang1) LÜ Ying2) ZHANG Zhi-an3) LAI Yan-qing4) LI Jie5) LIU Ye-xiang6)

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자료요약
카테고리 : 합금/복합 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2021.01.05
구리-인듐-세렌 Cu In Se2 (CIS) 박막은 수용액에서 펄스도금 전착을 사용하여 몰리브덴 소재를 준비하였다. 공동도금에 가장 적합한 펄스전위 범위는 선형전위 스캔곡선에서 -0.55 ~ -0.75 V (vs SCE) 인 것으로 밝혀졌다. 전착된 피막은 XRD (X-선회절계), SEM (주사전자 현미경) 및 EDS (에너지분산 X-선 분석계)로 특성...

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