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마이크로 포러스 크롬 석출을 만드는 도금욕과 공정
Plating bath and process for making microporous chromium deposits
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자료요약
카테고리 : 크롬/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.13
미세 입자가 크롬층 또는 하위층에 존재해야 한다는 요건없이 미세 다공성 크롬층을 전기도금하기 위한 조성물 및 방법이 개시된다. 사용된 조성물은 크롬산 및 설포아세트산 및 선택적으로 중크롬산 이온, 설페이트 이온 및/또는 불소 이온을 함유하지만 요오드화물, 셀렌화물 또는 브롬화물 이온은 실질적으로 없다. 평방 ...
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도금에 의한 경질금도금 피막 형성을위한 3개의 접근에 대해 소개한다. 또한 다기능하고 강력한 소형 전자기기의 보급에 따른 실장의 기술 요구의 고도화를 검토한 φ10 ...
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새로운 비시안계 치환형 무전해금도금액 (신규 비시안금) 과 종래의 시안계 치환형 무전해금 Au 도금액 (시안 금) 에서 만든 피막의 표면분석 및 납땜 접합성에 관하여 ...
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마이크로 포러스 크롬도금 ^ Micro Porous Chromium Plating 비전도성 미립자를 포함한 도금욕에 [듈니켈도금|스트라이크도금]을 하고, 그 위에 0.25 ㎛ 정도의 크롬도금을 ...
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무기재질 소재 (납계 화합물 소결체) 에 적용가능한 전처리법과 이를 이용한 무전해니켈 도금을 만들기 위한 목적
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