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금속 후막 구조체 제작기술에 관한 연구

등록 2009.09.17 ⋅ 48회 인용

출처 한국전자통신연구소, 1996.12.1, 한글 47 쪽

분류 연구

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저자

박영준1) 김용권2) 이종현3) 백창욱4) 임형택5) 김성혁6)

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2016.03.23
대표적인 위치 인식 소자인 가속도계와 각속도계의 경우 현재 주로 실리콘 마이크로머시닝에 의해 제작되고 있으나 실리콘 마이크로머시닝으로는 기본적으로 높은 ,구조물 이상 제작이 어렵기 때문에 입력전압이 높고 출력 감도가 떨어진다는 단점이 (10 ) ㎛있다. 본 연구는 이러한 위치 인식 소자의 성능 향상을 위해 높은...
  • 광택 황동을 소재금속에 전기도금하는 신규방법은 함유하는 알칼리성 시안화물 수용액을 통해 애노드로 부터 소재금속 캐소드로 전류를 통과시키는 것을 포함한다. 구리이온...
  • Ralufon NAPE 14-90 ^ Naphthol polyepoxypropyl Sulfonate Potassium ^ Polyethylen/propylenglycol (beta-naphthyl) (3-sulfopropyl) diether, Kalium salt 저기포성 음이...
  • 알콕실화 방향족 알코올, 아민, 무기염기로 이루어진 코팅제거 조성물은 소재표면으로 부터의 페인트와 같은 코팅을 박리하는데 유용하고 휘발성 유기화합물 또는 HAPS 로 ...
  • 구연산염욕의 조성, 전착조건및 전지구성의 실험결과를 가지고 구연산염욕의 전착코발트를 이용할때 장식도금의 내식성에 관하여 가속부식시험을 실험
  • 무전해 도금기술의 최근 동향에 관하여 설명하고, 무전해 도금기술의 공통항목에 관하여 설명