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인산에 있어서 구리전해 연마의 연구
Research on the Copper Electrochemical Polishing in Phosphoric Acid

등록 : 2020.07.01 ⋅ 27회 인용

출처 : Surface Technology, 42권 3호 2013년, 중국어 5 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

LI De-yu1) XIA Guo-feng2) ZHENG Zhen3) WANG Zi-yu4) TIAN Dong5) WANG Chen6) ZHAI Wen-jie7) LI Ning8)

기타 :

铜在磷酸溶液中的电化学抛光研究

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분류 :
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자료요약
카테고리 : 연마/연삭 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2020.12.28
인산 용액에서 구리의 전해연마의 전기화학적 거동은 양극편광 및 전기화학적 임피던스 스펙트럼 테스트에 의해 연구되었다. 연구 결과는 인산 농도의 증가와 함께, 구리가 0.2 ,0 . 4 ,0 . 6 ,0 . 8 V 4가지 전위 하에서 전해연마의 거칠기는 인산질량점수가 55ㅈ% 일 때 가장 낮은 값에 도달한후 감소 및 증가추세를 ...
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  • 도금두께의 계산법 ^ Plating Thickness Calculating Method [패러데이법칙]에 따라 [전기화학당량]에 의하여 흐른 전기량에 비례한 도금두께를 계산할 수 있다. 평균두께 (...
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