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저황산 크롬농도의 크롬도금에 있어서 착화제 첨가의 효과
Effect of Complexing Agent on Chromium Plating with Low Chromium Sulfate Concentration

등록 : 2020.07.28 ⋅ 6회 인용

출처 : Plating and Finishing, 33권 9호 2011년, 중국어 4 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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配位剂对低浓度硫酸铬镀铬的影响

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자료요약
카테고리 : 크롬/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2021.02.17
저황산 크롬농도의 3가크롬 전해에서 저코스트와 친환경으로 관심을 받고 있는 장식용 3가크롬을 사용하였다. 도금조의 기능에서 착화제 첨가의 효과와 석출특성을 연구하였다. 최적의 도금욕 조성을 포름산소다와 말릭산을 사용한 착화제에서 얻을수 있다. pH 3.0 이하, 온도 40 ℃ 에서 크롬피막의 석출은 광택범위가 넓고 ...

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