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다이아몬드 전극을 이용한 구리도금용 첨가제의 전기화학적 분석
electrochemical analysis additives in copper electroplating bath using diamond electrode

등록 2011.05.19 ⋅ 116회 인용

출처 표면기술, 61권 8호 2010년, 일본어 5 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2021.01.03
PEG SPS JGB 세성분의 미량 첨가제에 관하여 FIA 를 이용하여 고전위에서 다이아몬드 전극을 검출기로한 분석방법 연구
  • 도금액내 스러지 발생원인과 대책을 수립하였으며 이를 토대로 도금액 청정 시스템을 설계 제작하여 현장에 설치하고 이의 운영에 필요한 제반 기술을 확보함으로서 도금용...
  • 절연기판에 노출된 전체표면의 접착층을 형성하는 도금피막을 형성하고, 상기 접착층 표면을 거칠게 하고, 촉매용액으로 부터 상기 접착층 표면에 무전해 구리도금용 촉매를...
  • 니켈아세테이트 기반의 실링, 규산염 기반의 실링 및 이들을 조합한 실링의 경우 게시된 실링기술을 간략하게 소개하고 마지막으로 상호관계를 설명하여 일반적인 이해를 제...
  • Co-Ni-P 합금박막을 중심으로 전기도금을 행하여 합금 원소의 첨가에 따른 자기적 성질의 변화를 수직방형과 수평방향에 대하여 조사하고 이들이 자기기록매체로서의 기본적...
  • 결정배향성억제에 의한 상층자기특성 억제라는 관덤에서, 무전해 코발트-니켈-레니움-인Co NiReP/ 코발트-인 CoP 복합형 자기기록 매체의 제작 연구