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마이크로 전자와 광전자 응용에서 금-주석 AuSn 의 펄스도금
Pulse Plating of GOld-Tin alloys for Microelectronic and optoelectronic applications

등록 : 2011.08.05 ⋅ 55회 인용

출처 : University of Alberta, NA, 영어 9 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 금은/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2022.02.13
금-주석 공융납땜 (30 at % Sn) 는 우수한 열 및 기계적 특성과 상대적으로 낮은 용융 또는 리플로 온도 (280 ℃) 로 인해 마이크로 전자 및 광전자 장치를 패키징 하는데 사용된다. 전기도금은 납땜 프리폼 및 증발과 같은 현재의 상업용 납땜도금 공정에 대한 비용효율적인 대안이다. 펄스전류를 사용하는 약산성 염화...
  • 8 종류의 욕을 만들고, 도금 가능한 욕과 불가능한 욕의 차이에 관하여, 도금액의 구성성분 및 침지 전위측정을 검토
  • 재결정 속도와 가열시간의 관계로 성장 입자밀도와 응력사이클 수의 관계를 조사하고 비교했다. 그런 다음 그 결과로부터 돌기성장 과정이 고려되었다.
  • 금속전착 ^ Electrodeposition of Metal 전기적으로 음극에 붙는 것으로 환원되어 석출 됨. M+→ M (cathode) 양극 현상 : M→M+ (anode) 참고 금속전착
  • 에틸렌디아민 4삭산 2소다, 탄산암모늄 및 암모니아수를 함유한 알칼리성 용액에서의 은-팔라듐 Ag-Pd 합금도금에 관하여, 기본적인 용액조성, 전류밀도 및 얻은 합금피막의...
  • 전석 팔라듐-니켈-인 합금피막의 졀정구조에 영향을주는, 공석의 영향에 관하여 검토하고,경도 및 접촉저항등의 피막특성에 관하여 검토하고. 고부하 접점재료로서의 적응성...