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도금피막의 결정학적구조
Crystallographics structure of plating films

등록 : 2008.08.08 ⋅ 43회 인용

출처 : 표면기술, 40권 11호 1989년, 일본어 7 페이지

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 종합자료 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2014.08.10
도금막의 결정학적구조에 관하여 해설하였고, 지금까지의 전기화학과 다른점을 설명하였다.
  • PR 전해법 (電解法) ^ Periodic reverse current plating 전기도금중에 보통은 음극을 (-) 극으로하여 도금을 하나, 저전류 피복력의 증진과 물성개량을 위하여 양극과 음극...
  • 일반적인 2종류의 무전해 Pd욕을 이용하여 도금을 하고, 승온 스페돌(TDS) 및 X선석(XDR)c에 의한 Pd피막중 수소의 농도와 존재형태에 관하여 검토
  • 3가 크로메이트 피막 ^ Trivalent Chromate Coating Composition & Anti-Corrosion 3가 크롬을 주제로 이용한 아연도금 부동태 피막의 연구에 관하여 설명하였다. 실험에는 ...
  • 325 ℃ 미만의 융점을 갖는 열가소성 소재를 제공하고, 전도성금속의 무전해 도금을 위한 촉매의 선도체로 소재를 도금하는 단계를 포함하는 플라스틱에 하나이상의 전기전도...
  • 옥사이드 ㆍ Oxide [인쇄회로] (PCB) 보드의 내부 구리 표면을 산화하여 거칠게 만들고 내층 구리박과의 밀착력을 좋게 하는 역할을 한다. 2Cu + ClO2 → Cu2O (산화2구리) +...