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Photomask를 이용한 electroetching의 부식거동
Recent advance in dry etching technology
자료 :
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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2015.01.28
에칭후 노출된 면적의 에칭양을 중량 변화로부터 조사하여 에칭속도로 하였으며, SEM을 이용하여 에칭 된 Groove 표면을 관찰 하였다
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양이온 전착도장을 중심으로 전착의 개요를 알아보고 전착 수지의 제조방법, 전착공정 및 전착기술의 초근 개발동향을 고찰
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포름알데하이드, 증감제, 활성제 및 착화제의 농도를 포함하는 기존공정의 변수효과는 메커니즘을 설명한다.
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전해 세척액이 노화되면 도금의 밀착이 악화되는며 액 중에 철이 녹아서 철 도금으로 석출되어 근본적인 원인과 지금부터 8 년의 옛 쇼와 49 년, 도와 켄 연구소 (도쿄)의 ...
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AZ41 마그네슘의 은 Ag 도금공정을 제시하였고, 은도금 공정과 마그네슘 합금의 적절한 기술 공식 변수를 식별하였다. 얻어진은 피막은 밝고 균일하며 미세하였다. [[밀...
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이 장에서는 두 그룹의 무전해니켈 도금의 구조와 특성을 고려하였다. 첫 번째 그룹은 니켈-인 합금으로, 차아인산나트륨이 환원제 용액에서 도금된다. 이러한 도금은 일반...