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Makoto SEKINE 1건
Photomask를 이용한 electroetching의 부식거동
Recent advance in dry etching technology
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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2015.01.28
에칭후 노출된 면적의 에칭양을 중량 변화로부터 조사하여 에칭속도로 하였으며, SEM을 이용하여 에칭 된 Groove 표면을 관찰 하였다
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무전해 도금법에 의한 니켈-코발트-인 Ni-Co-P 계 합금피막은 자기기록 매체용의 경자성체 박막에 응용하고자 하는 연구들이 보고되고 있으며, 그 피막의 자기 특성은 도금...
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전극활성이 크고 내식성도 양호한 이산화납 Pb 전극을 사용하여 전해법에 의한 도금폐수중의 시안염을 처리하기 위하여, 처리용액의 온도 및 pH 를 포함한 이산화납의 최적 ...
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전착 코발트-철 CoFe 욕의 유기첨가제에 의한 석출막의 저보자력화 및 성막후의 자계중 열처리에 의한 자기이방성 제어를 목적으로 한 연구
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구리함량이 높으며 석출속도가 빠른며 안정한 무전해 니켈-구리-인 합금도금욕의 개발시험과, 0.5M 황산용액에 대한 도금피막의 부식특성을 중심으로 구리의 영향에 관...
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도금공장 폐수중의 EDTA등 금속착화의 처리방법에 관하여 펜톤법을 이용한 산화분해법에 관하여 설명