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주석도금편에 대한 부동태 피막의 화학조성과 부동태 공정의 최적화
Chemical Composition of the Passivation Film on the Tinplate and Optimization of the Passivation Process

등록 : 2020.10.29 ⋅ 39회 인용

출처 : Plating and Finishing, 40권 11호 2018년, 중국어 7 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

镀锡板钝化膜组成及钝化工艺优化研究

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자료요약
카테고리 : 화성피막 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.02.09
X-선광전자 분광법 (XPS) 방법으로 다양한 부동태화 공정으로 처리된 주석판 표면의 부동태화 피막의 조성과 상대적 함량을 연구했다. 그 결과 Cr(OH)3 / Cr2O3 의 함량비가 1 에 가까울때 부동태 피막의 특성이 더 좋은 것으로 나타났다. 따라서 부동태 전류밀도는 30~40 mA/cm2 가 되어야 하며, 용액 pH 값은 기존...
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