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페놀설폰산욕에 의한 HCD 전기도금 연구
Study of HCD Electroplating By Phenolsulfonic Acid Baths

등록 : 2023.08.11 ⋅ 18회 인용

출처 : PLATING & SURFACE FINISHING, Jul 1997, 영어 5 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 석납/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2024.02.06
메탄설폰산 및 알칸올설폰산과 같은 새로운 주석 도금욕을 광범위하게 시험하였다. 생산성이 높은 주석 도금 공정을 개발하기 위해 페놀설폰산 기반 욕에 의한 고전류 밀도 (HCD) 주석 도금을 연구하였다. 주석도금의 특성과 도금 조건 (전류 밀도, 주석 이온 농도, 유속) 사이의 관계를 조사하였다. 전해조 내 주석 이...