도금 첨가제 제조 원료약품 - 웨이퍼 세척기술

표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

검색글 258건

웨이퍼 세척기술

Wafer Cleaning Technology

등록 : 2010.02.08 ⋅ 53회 인용

출처 : 표면기술, 50권 10호 1999년, 일어 6 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

Itaru KANNO¹⁾

기타 :

자료 :

관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류 :

목록

자료요약

카테고리 : 산세/탈지 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.09.22

웨트세척기술의 개념을 소개할 목적으로, 대표적인 세척법으로 RCA 섹척과 자연산화제거법을 이용한 HF계 세척 및 건조기술, 드라이에칭후에 형성된 레지스토 잔유물의 제거, 파티클제거에 이용되는 물리세척, 기능수등의 기술에 대하여 설명

연관글

알루미늄 피막과 전처리에 대한 실질적 이슈

양극산화층의 특성 부식방지 내마모성 우수한 밀착력 전기절연 단열
구리-주석 합금도금에 있어서 시안 프리 피로인산의 이용

구리와 주석의 욕조성을 변경하거나 특징적인 첨가제를 사용함으로써 은백색, 금색, 구리 또는 밝은 검정색의 안정된 피막을 얻을수 있다. 도금욕의 주석함량을 늘리면 도금...
무전해 프로세스에 의한 탄화규소 SiC 기판상에 귀금속 촉매의 석출

무전해 치환 석출법에 의해 Au 금입자를 부여함으로써 탄화실리콘 SiC 상에 무전해 니켈-인 Ni-P 도금막을 직접 형성하는 데 성공했다. 이 때, Si 상에 도금을 실시한 경우 ...
아연도금 기술 현황 - 자동차 부품 도금업체 대상 세미나

1. 기존 아연도금 기술 2. 신 비시안 알칼리아연도금 (징케이트 도금) 3. Cr3 크로메이트 기술개발 현황 -Cr6 환경규제 현황 -Cr6 크로메이트 대체 기술 -Cr3 ...
L C F

Ultra-low cadmium plating process Accu-Labs BAC-7 (Bright Acid Copper) process produces very bright and leveled deposits over a wide current density range, at ex...