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고분해능 전자현미경에 의한 알루미늄 양극산화 피막의 구조
The structure of anodic oxide films formed on aluminum obseved by a high resolution electron microscope

등록 : 2008.08.08 ⋅ 39회 인용

출처 : 표면기술, 43권 3호 1992년, 일어 11 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 양극산화 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2020.12.06
알루미늄 양극산화 피막의 구조에 관하여 현재가지 연구현황을 소개하고, 여러 종류의 전해액으로 만든 피막의 격자상 레벨의 고분해능 전자현미경 관찰결과에 관하여 설명
  • JGB
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  • 팔라듐도금 리드프레임을 IC 조립공정의 열처리 가열후, 납땜 및 와이어본딩등의 도금특성 변화를 조사하고, 표면분석을 하여 도금두께 열처리 조건등이 도금막 특성의 변화...
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  • 금속 표면의 전기 화학적 산화로 안정적인 산화물 또는 염막을 생성한다. 알루미늄에서는 전도성 매체에서 알루미늄을 통해 전기를 통과시켜 알루미늄과 산소로 구성된 다공...