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인산아연 함유 표면 조정제, 인산염 화성처리 강판 및 도장강판 그리고 인산아연 분산액

등록 : 2008.08.19 ⋅ 36회 인용

출처 : 한국특허, 2003-0096065, 한글 9 쪽

분류 : 특허

자료 : 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 화성피막 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2020.11.22
종래의 표면조정제에 비하여 액상이고 안정성이 좋으며, 다음 공정의 인산아연 피막 화성공정에서 편차가 없는 균일하고 치밀한 인산아연 화성피막을 제공
  • 선폭이 70~200 nm 인 코발트 나노와이어의 전기도금 공정을 개발했다. 도금전해질은 황산코발트 CoSO4 와 유기첨가제인 디메틸 디티오 카바민산 에스테르 나트륨염 (DAESA) ...
  • 전해도금 방법에 의해 구리 박막을 제조하고, 여러가지 분석장비를 이용하여 각각의 첨가제에 따른 영향성을 살펴보는데 그 목적이 있다. 1. PEG4000을 첨가제로 사용시 광...
  • 일반식의 피리디늄 화합물이 첨가제로서 용해되지 않은 pH 3.5~7.5 의 산성아연 전기도금조가 제공된다. 벤젠 또는 나프탈렌 설폰산 또는 이의 염과 포름 알데하이드의 수용...
  • 기존의 광택니켈과 동일작업에도 우수한 광택니켈을 얻을수 있는 설파민산욕 광택제
  • 아연-망간 복합 인산염 전환 피막 (Zn-Mn PCC)이 위에 석출되어. AZ91D 합금의 내식성을 높였다. Zn-Mn PCC의 성장 메커니즘과 특성은 인산염 욕에 다른 ZnO 함량을 추가하...