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HEDP 구리도금층의 밀도에 있어서 계면활성제의 영향
Influences of Surfactant on the Density of HEDP Copper Plating Layer

등록 2020.11.24 ⋅ 45회 인용

출처 Plating and Finishing, 42권 3호 2020년, 중국어 6 쪽

분류 연구

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表面活性剂对HEDP 镀铜层致密度的影响

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2020.12.14
HEDP 구리도금의 밀도에 대한 계면활성제의 효과를 연구하였다. 구리 전착의 전기 화학적 거동을 선형 전위스캐닝 방법으로 연구하고, 도금액과 소재 사이의 접촉각을 시험 하였다. 도금의 거칠기는 계면활성제의 습윤 및 레벨링 능력을 특징으로 하며, XRD는 피막의 입자 크기를 분석하는데 사용 되었다. 계면활성제는 [[음...
  • 다양한 조성의 니켈-루테늄 합금을 전착에 의해 도금되었다. 순환전압전류법 및 선형 스트립핑 전압전류법 측정은 루테늄과 니켈의 동시 전착이 니켈 환원의 잠재적 값 ...
  • 금속의 부식은 금속자체가 대기 및 부식 분위기에서 산화를 받고 산화막을 형성 변색, 즉 녹스는 것이며, 또한 부식은 금속도금함 으로써 소지 철의 부식을 방지하는 기능을...
  • 산성 아연도금욕 ^ Acid Zinc Plating Bath 산성 아연도금욕은 시안화물을 사용하지 않는 아연도금으로 황산욕ㆍ염화욕ㆍ붕불화욕ㆍ설파민산욕 등이 있다. 염화암모늄욕 ^ Z...
  • BPC 48 ^ Benzylpyridine-3-carboxylate CAS : 15990-43-9 C13H11ClNNaO2 = 271.69 g/㏖ 갈색~적갈색 액상 47~49 % ㏗ : 5.5~6.5 알칼리 시안ㆍ비시안 아연 및 아연합금 전...
  • Quadrol BASF 도금약품 등록상표 [Q75|Lutropur Q 75] / EDTP 참고