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전류반전법에 의한 알루미늄 양극산화피막의 미세구조
Studies od microstructure of anodic films on aluminum by pulse current with a negative component

등록 : 2008.09.03 ⋅ 43회 인용

출처 : 표면기술, 40권 12호 1989년, 일어 6 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 양극산화 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.12.12
황산 수산 및 크롬산욕을 이용한 양극산화피막을 만들때의 전류반전조건과 피막의 미세구조 및 다공질구조에 관하여 전자현미경으로 관찰한 보고서
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  • 순도가 다른 2종류의 황산구리로 건욕된 도금욕과 공칭순도 4N의 함인 구리양극을 이용한 구리배선을 형성하고, 배선저항율에 있어서 황산구리의 순도 영향을 밝히고, ...
  • 크롬화합물이 함유되지 않은, 40도 전후의 저온처리로, AZ91D 재의 크로메이트처리와 동등이상의 도막밀착성 도막내식성, 도막내식성을 부여하는 마그네슘합금용 인산아연피...
  • Pavco’s Catachrome PDR process is the most easily controlled mixed catalyst system in the hard-chrome plating market. Offering high cathode efficiencies, Catachr...
  • 전기도금 전처리는 도금의 성능 향상, 신기능 부여를 목적으로 한다. 일반적인 전처리로는 탈지, 산세 등의 세정, 프리 도금, 예비 흡착 등이 있으며, 기재, 도금 금속, 도...